Concentração local de corrente na máquina de revestimento a vácuo

Concentração local de corrente na máquina de revestimento a vácuo

A parte ejetada do ponto de alta densidade de elétrons gerará uma corrente de alta densidade, e a corrente de alta densidade pode gerar calor Joule e fazer com que a temperatura do ponto continue subindo, emitindo elétrons quentes. Este fenômeno resulta em uma concentração localizada de corrente.

O calor Joule gerado pela concentração localizada da corrente pode induzir a emissão massiva de íons e elétrons do material do cátodo, liberando partículas de material do cátodo fundido e deixando traços de descarga.

Parte dos íons em um grande número de íons ejetados será sugada de volta para a superfície do material do cátodo para regenerar a camada de carga espacial e o forte campo elétrico, e o ponto recém-gerado com uma pequena função de trabalho começará a emitir elétrons novamente .

Elétrons são emitidos a partir de limites de grãos de revestimentos a vácuo

Os íons metálicos são atraídos para a superfície do cátodo e podem gerar uma camada de carga espacial. O forte campo elétrico acionado durante esse tempo faz com que os elétrons sejam ejetados de microtrincas ou limites de grão com pequena função de trabalho na superfície do cátodo.

Parede interna a vácuo e ânodo da fonte alvo da máquina de revestimento a vácuo

Depois de muitas colisões, a energia dos elétrons diminui gradativamente, livra-se dos grilhões das linhas do campo magnético e finalmente cai sobre o substrato, a parede interna da câmara de vácuo e o ânodo da fonte alvo. Sob a aceleração do campo elétrico de alta voltagem, os íons Ar plus colidem com o alvo e liberam energia, fazendo com que os átomos na superfície do alvo absorvam a energia cinética dos íons Ar plus e se separem da rede original, e os átomos alvo neutros escapam da superfície do alvo. Voe para o substrato e deposite uma película fina no substrato.

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