Princípio de funcionamento da máquina de galvanoplastia a vácuo máquina de revestimento iônico

Princípio de funcionamento da máquina de galvanoplastia a vácuo máquina de revestimento iônico

A contínua pesquisa e desenvolvimento de tecnologia melhorou continuamente o nível do processo de fabricação na indústria. Em comparação com as doenças intratáveis ​​do passado, elas foram gradualmente resolvidas ao longo do tempo. Ao mesmo tempo, mais e mais produtos são desenvolvidos e nascidos com base no progresso científico e tecnológico à medida que as necessidades das pessoas aumentam. E hoje vamos falar sobre a máquina de revestimento iônico.

O princípio da máquina de revestimento iônico é, na verdade, usar descarga de gás ou ionização parcial do material evaporado na câmara de vácuo e depositar o material evaporado ou reagente no substrato enquanto os íons do gás ou as partículas do material evaporado são bombardeados. O revestimento de íons combina organicamente o fenômeno de descarga de brilho, tecnologia de plasma e evaporação a vácuo, o que não apenas melhora significativamente a qualidade do filme, mas também expande a gama de aplicações de filmes finos. Suas vantagens são a forte adesão do filme, boa difração e uma ampla gama de materiais de filme. DM propôs o princípio do revestimento iônico pela primeira vez. O processo de trabalho é o seguinte: primeiro bombeie a câmara de vácuo a um grau de vácuo acima de 4 × 10 (-3) Pa, depois ligue a fonte de alimentação de alta tensão e estabeleça uma descarga de gás de baixa pressão entre a evaporação fonte e o substrato. plasma de baixa temperatura. O eletrodo de substrato é conectado a uma alta tensão negativa de 5KV DC para formar um cátodo de descarga incandescente. Os íons de gás inerte gerados na região de descarga luminescente entram na região escura do cátodo e são acelerados pelo campo elétrico e bombardeiam a superfície do substrato para limpá-lo. Em seguida, ele entra no processo de revestimento, aquecendo para vaporizar o material de revestimento, e os átomos entram na área do plasma, colidem com os íons e elétrons do gás inerte e uma pequena parte é ionizada. Os íons ionizados e os íons de gás bombardeiam a superfície do revestimento com maior energia, resultando em melhor qualidade do filme.

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